电镀镍工艺
1.半光亮镀镍Semi Bright Nickel Plating | |||||
产 品 名 称 | 特 点 及 主 要 用 途 | 基础液组成 | WZ添加剂 | ||
名称 | 开缸量g/L | 名称 | 开缸量ml/L | ||
WZ-112 | 整平性好,延展性极佳,镀层稳定,单一补充 | 硫酸镍 | 240-320 | WZ-112C | 5 |
WZ-1120 | 高分散性、高整平性,电流范围宽广,操作简便,成本低、兼容性好 | 硫酸镍 | 280-320 | WZ-1121 | 3-6 |
WZ-1130 | 分散能力佳,镀层均一成本低,适宜于五金、自行车等双层镍电镀工艺 | 硫酸镍 | 280-320 | WZ-1131 | 5 |
WZ-1160 | 分散性极佳,高整平,兼容性好,抗蚀性强,单一补充 | 硫酸镍 | 280-320 | WZ-1161 | 5 |
WZ-1170 | 镀层不含硫,延展力及整平力极佳的半光亮镍层 | 硫酸镍 | 280-320 | WZ-1171 | 3-6 |
WZ-1180 | 镀层不含硫,延展力及整平力极佳的半光亮镍层 | 硫酸镍 | 280-320 | WZ-1180A | 9-12 |
TDW | 提高半亮镍和光亮镍之间的电位差 | 用于半亮镍镀槽 | WZ-TDW | 0.3-1.0 |
2.光亮镀镍Bright Nickel plating | |||||
产 品 名 称 | 特 点 及 主 要 用 途 | 基础液组成 | WZ添加剂 | ||
名称 | 开缸量g/L | 名称 | 开缸量ml/L | ||
Ni-TOP光亮镍 | 出光速度极快,镀层乌黑清亮,延展性好,整平力和深镀力极佳,易于套铬,可用于挂镀和滚镀。 | 硫酸镍 | 300-375 | WZ-Top-MU | 8-12 |
Ni-MSF | 光亮性极好的,延展性均匀的镍镀层。镀层具有优异的整平力和均镀力。镍镀层易镀铬。特别适宜于五金卫浴行业。 | 硫酸镍 | 260-320 | MSF-A ( ml/L ) | 8-12 |
WZ-LS | 整平力好,柔韧力均一,光亮如镜的白色镍镀层,并且镀层的走位能力也很好。 | 硫酸镍 | 250-3500 | WZ-X5 | 5-9 |
WZ-66光亮镍 | 镀层光亮,表面平滑,柔软,易套铬,维护简便 | 硫酸镍 | 300-375 | WZ-66MU | 6-15 |
WZ-110 | 镀层白亮,整平及走位性好,出光速度快,可进行二次加工,适于滚镀和挂镀 | 硫酸镍 | 230-340 | WZ-110A | 8-12 |
WZ-111光亮镍 | 镀层均匀透亮、无台阶,带乌亮厚实光泽,整平性极佳,出光速度快 | 硫酸镍 | 230-340 | WZ-111A | 8-12 |
WZ-112光亮镍 | 镀层光亮柔软,适于二次加工 | 硫酸镍 | 240-320 | WZ-112A | 8-15 |
WZ-113滚镀光亮镍 | 专用于电池壳滚镀,具有极强的深度能力和极好的分散性,镀层光亮,物理加工性能好 | 硫酸镍 | 220-280 | WZ-113A | 8-15 |
WZ-116滚镀光亮镍 | 镀层清亮,分散能力好,深孔电镀能力强,出光速度快 | 硫酸镍 | 220-280 | WZ-116A | 8-15 |
WZ-117超速光亮镍 | 镀层清亮,出光速度快,走位好 | 硫酸镍 | 230-340 | WZ-117A | 8-12 |
WZ-118 | 镀层白晰柔软,内应力极低,镀液分散性极佳,适用于电泳、镀金等五金行业的装饰性电镀 | 硫酸镍 | 240-320 | WZ-118A | 8-12 |
WZ-119超速光亮镍 | 镀层清亮,出光速度快,走位性佳,电流密度范围极宽 | 硫酸镍 | 260-340 | WZ-119A | 8-12 |
3.功能性镀镍Functional Nickel Plating | |||||
产 品 名 称 | 特 点 及 主 要 用 途 | 基础液组成 | WZ添加剂 | ||
名称 | 开缸量g/L | 名称 | 开缸量 | ||
WZ-HS高硫镍 | 用于半亮镍和光亮镍之间,提高镀层的抗蚀性 | 硫酸镍 | 280-320 | WZ-HS | 15-20 ml/L |
WZ-NF镍封工艺 | 即微孔铬,提高装饰性镀铬的抗蚀性 | 硫酸镍 | 300-350 | WZ-163M | 6-10ml/L |
NF-308镍封工艺 | 是一种可以提高镍-铬镀层的抗腐蚀性能的工艺特别适宜于塑料电镀工艺 | 硫酸镍 | 240-320 | NF-308ZT | 1.0-4.0 |
NF-309镍封工艺 | 是一种可以提高镍-铬镀层的抗腐蚀性能的工艺特别适宜于塑料电镀工艺 | 硫酸镍 | 240-320 | WZ-66Mu | 5-10 |
HPM高应力镍工艺 | 一种利用镍层应力与后期的铬层产生微裂纹的工艺体系 | 氯化镍(NiCL2 6H2O) | 200-300 | HPN-1 | 40-60g/L |
氨基磺酸镍工艺 | 极低的镀层应力,沉积速度快,维护简单,操作方便 | 氨基磺酸镍 | 400-850ml/L | WZ-K | 1-2ml/L |
4.珍珠镍 | |||||
产 品 名 称 | 特 点 及 主 要 用 途 | 基础液组成 | WZ添加剂 | ||
名称 | 开缸量g/L | 名称 | 开缸量 | ||
WZ-181 | 起沙速度快,沙剂操作简单,镀液稳定,沙感强,不易出现黑点或亮点,无油状分解物的产生 | 硫酸镍 | 400-480 | WZ-181A | 8-20 ml/L |
WZ-188 | 提供高雅柔和细致的消光镀层,韧性及结合力好,沙剂操作简单、稳定 | 硫酸镍 | 450-520 | WZ-188A | 15-25ml/L |
WZ-SS | 该镀层具有类似银砂效果,荫雾甚轻、沙感柔和、表面清亮。工艺控制简便,连续作业性强 | 硫酸镍 | 420-450 | WZ-SSA | 15-22ml/L |
5.其它工艺Other Processes | |||||
产 品 名 称 | 特 点 及 主 要 用 途 | 使用浓度 | 使用方法 | ||
WZ-Tx除杂水 | 适于各种镀镍工艺,可去除铜锌杂质 | 不超过1ml/L | 视铜锌杂质的污染程度而定 | ||
WZ-Fe除铁剂 | 适宜各种镀镍工艺中铁杂质的去除 | 8-10ml/L | 每补加1kg硼酸,补加1升WZ-Fe | ||
WZ-Tc除铜水 | 广泛用于各种镀镍工艺,有效去除镀液中的铜杂质 | 1ml可去除15-20ppm铜杂质 | 视铜杂质含量而定 | ||
WZ-Y润湿剂 | 配合半亮镍和光亮镍电镀,降低表面张力,有效消除针孔 | 2-3ml/L | 阴极移动 | ||
WZ-K润湿剂 | 配合半亮镍和光亮镍电镀,降低表面张力,有效消除针孔 | 2-3ml/L | 空气搅拌 | ||
WZ-800电解退镀 | 适于钢铁基体上半光亮镍、光亮镍、镍铁合金、化学镍和铜镀层的电解退镀 | 开缸剂 | 330ml/L | ||
WZ-801电解退镀 | 专用于不锈钢挂具电解退镀,可同时退除铜、镍、铬、锌、镉及化学镍等金属镀层 | WZ-801开缸剂 | 250ml/L | ||
WZ-803电镀退镀 | 用于铜及铜合金电解退镀的工艺,也可用于铜接点挂具的退镀 | WZ-803 | 250ml/L | ||
WZ-820化学退镀剂 | 退镀速度快、溶液寿命长等优点,特别适宜小型工件的手工退镀 | WZ-820 | 120g/L |